今日、科学技術の目覚ましい進歩にともない、製品の小型・高精密化への要求が高まっています。
半導体工業をはじめ、精密機器工業、食品加工業など、あらゆる製造環境において、空気中の浮遊塵など、汚染物質が引き起こす製品への影響が問題になっています。
そこで、それらの汚染物質を除去し、清浄な作業環境を作り、維持するのがクリーンルームです。
エクセルでは、清浄度クラス1から100,000までのクリーンルームをはじめ周辺機器を高品質で低コスト、しかも迅速にお届けしています。
クリーンルームとは
クリーンルームとは、空気環境を温湿度制御だけでなく、浮遊塵埃や有害ガス、細菌等の汚染物についても、一定の基準に制御した清浄な環境を有する部屋です。
クリーンルームの清浄な環境を維持するためには、設計、施工、または運用に対し、次の3つの条件を満足することが必要になります。
外の塵埃、細菌等、汚染物をルームに持ち込まない
ルーム内は、塵埃の付着しずらく発塵のない材料を使用し、入室者は防塵衣、エアシャワーを使用。機材の搬入はできるだけ最小限にし、エアシャワー、パスボックスを通して、室内に持ち込まれる汚染物を防ぐ必要があります。
ルーム内での発塵を最小限に抑える
ルーム内での発塵は、作業自体、または作業者により避けることができませんが、最小限に抑える工夫が必要です。
ルーム内の汚染物を速やかに除去する
ルーム内で発生した汚染物質は、ルーム内に留まらないよう、構造、換気回数等を考慮し、速やかに除去する必要があります。また、有害ガス、発熱等に関しては、局所的な排気が必要です。
クリーンルームの規格
ISOにおけるクリーンルーム規格化は、1993年に始まり、現在では、クリーンルームの清浄度に対する初の世界統一規格となります。（規格番号：ISO-14644）
以下に本規格のクラス分類と従来規格との関係比較を表に示します。
工業用クリーンルーム
主に浮遊粉塵を対象としたクリーンルームで、電子工業、精密機械工業、精密印刷、半導体工業に多く使用され、精密製品の高品質化と歩留まり向上をはかる目的に用いられます。
特に最近、半導体では0.1μm以下の粉塵除去が要求されるようになっています。
バイオロジカルクリーンルーム
製薬工場をはじめ、病院、各種研究室などでの細菌による汚染防止や食品工業の腐敗菌防止、植物培養、細菌の影響を受けない清浄動物の飼育など、粉塵だけでなく微生物や細菌も除去するクリーンルームです。
クリーンルームの換気例
乱流方式
天井部に局所的にHEPAフィルターを取り付けた吹き出し口を設置し、清浄空気を取り込む方式です。
最も一般的な方法で、設備コストも低く管理も容易です。
水平層流方式
室内の片方の壁全面にHEPAフィルターを取り付け、反対の壁に水平一方向に清浄空気を送り込む方式です。
上流付近では高い清浄度を得られますが、作業による発塵があると下流では清浄度が低下する場合があり、設備コストも比較的高くなります。
垂直層流方式
室内の天井全面にHEPAフィルターを取り付け、垂直に清浄空気を送り込みます。
床全面をリターングリルにし、室内のどの位置でも均一な風速、清浄度を得ることができます。ただし、設備コストが最も高く、管理も容易ではありません。